本来这篇研究论文，是微纳加工领域里的一个进展，实验室研究，和工业界没啥关系，谁知道题目里的“lighography” 一下子挠到了某些媒体的某点。
“lighography”这个词便是光刻的意思，看到光刻，他们就遐想到光刻机，看到5nm，就遐想到台积电的5nm 芯片制程，结果新闻就开始走样了，成了中科院弯道超车，荷兰ASML吓傻了。
实在这篇文章谈到的紧张是超高精度的无掩模的激光直接刻写，这个和芯片加工那个光刻机说没紧要吧，都是微纳加工的手段。
说有关系吧，光刻机是商业制造芯片，这个激光光刻目前只能在实验室里刻点沟沟道道，写个图案玩，离工业运用还十万八千里。
下面，量子菌就带大家粗略的读读这篇纳米神刊Nano letters的文章。
实在搞纳米的都知道，发在这个NL杂志上，就意味着离实际运用还很远远，我们文章末端都会写，本论文的研究在xxx领域有潜在的运用，有望xxxx。
Nano letters
来到Nano letters的网站上，来看中国科学院苏州纳米所 Nano Letters的这篇研究论文。
题目是：5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography。
从题目上可以看出，他们宣布了一种超高精度激光光刻的加工方法，可以制备最小5nm间隔的纳米狭缝电极和阵列。也便是用激光在基底上可以刻出沟道，处理后可以得到最小间隔5nm的电极。
激光直写
这当然是微纳加工领域的一个进步，对付无掩模刻写来说，激光直写一贯受限于衍射极限，很难做到10 纳米以下的超高精度加工。
激光直写，意思很大略，便是直接用激光照着一行一行的来写图案，以是加工韶光是硬伤啊，而且书写区域也不大。以前的激光直写，适宜加工一些微纳器件，做做机理研究发发文章。
本文宣布的新方法，便是采取了一种双激光束交叠的方法，可通过可掌握激光能量和步长，在钛基底上实现了最小5nm的加工精度。
把稳看下图，便是他们在钛片上用激光刻出了各种宽度的沟道，最窄的5nm。
激光刻蚀出来不同宽度的沟道
以上的原子力显微镜照片看着很清楚，最小的沟沟是5nm宽。但是光刻一些沟道，显得有点呆板。
为了更好的展示他们的激光刻蚀技能，于是作者们又在钛片上刻了一个钟表，便是下图所示。
看到了吧，这便是你们想要的激光光刻机刻出来的钟表，那么5nm在哪里呢？你先找一找，答案在评论区见。
激光直写，给你们画个表。
用激光在钛片画一些沟道，有啥用呢？
答案是：可以在刻蚀等处理之后沉积金属，制造电极，在上面搭个碳纳米管什么的，就可以大略测试光电性子了。下面便是这些沟道经由多重处理后，制备成5nm电极阵列的样子。
刚才提到了，激光直写和光刻机不一样，光刻机即时曝光，面积也很大，12英寸的晶圆。而激光直写要一行一行的写，很花韶光，很难写大面积，一样平常也便是mm量级，以是只能制造一些电极来做research。
但本文除了5nm的精度之外，另一个特点便是速率快。文中宣布，可以在一小时内加工5×10000个纳米狭缝电极。
看起来很多了吧，但和现在光刻机加工出来的芯片比，差的还是太远，一个华为麒麟1020手机芯片，里面就有120亿个晶体管，差距是天文数字。
媒体上科学宣布的原形
看完量子菌的文章解读，你也该知道了吧，这篇文章的激光直写，和光刻机没有什么关系。
文章里用激光在钛基底上画一些道道，可以做一些电极。什么中科院5nm光刻机打破，全是媒体的误读。他们看到5nm，看到光刻，就开始遐想光刻机，不是弯道超车，便是吓呆荷兰阿斯麦。
这才是光刻机
我们当前确实缺少高端光刻机，但业界也在努力追赶，上海微电子 90 nm量产，28 nm开拓中。其他半导体家当也好不断。
但我们不能过度吹捧，媒体每天搞出来一些自嗨的笑话，都吓坏人家论文作者了，官网上文章的宣扬稿都赶紧下线了，这就太魔幻了。
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