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韦尔股份取得一种功率MOSFET疆土专利专利技能能降低源极区未直接接触封装体的部分电流密度快速进行芯片的散热_沟槽_所述

南宫静远 2024-12-01 02:51:19 0

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专利择要显示,本申请履行例供应了一种功率MOSFET版图,包括:源极区和栅极区;所述栅极区设置在全体版图对角线的一端,所述源极区具有间隔设置的第一沟槽区和第二沟槽区,所述第一沟槽区包括多个间隔设置的第一沟槽,多个所述第一沟槽相互之间设置有第一阱区,所述第二沟槽区包括多个间隔设置的第二沟槽,多个所述第二沟槽相互之间设置有第二阱区,所述第一阱区和第二阱区的掺杂浓度不同。
本申请履行例可以使源极区未直接打仗封装体的部分电流密度降落,可以快速的进行芯片的散热。

本文源自金融界

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