这里面一个比较大的不同是芯片制造须要的掩膜版比印钞的多很多,少则须要10多张掩膜版,多则须要七八十张掩膜版以上,越是尖端前辈的芯片制造工艺(例如7纳米),掩膜版的数量增加得尤其多。
为什么说芯片制造繁芜或者生产良率低?一个很主要的缘故原由是一片硅晶圆(wafer)常常要经历不同掩膜版的几十次曝光,如果不同的掩膜版对准的时候有一点点错位(纳米级别)或有一张掩膜版的图案生产出来有缺陷,生产出来的芯片便是不合格的,最近一家头部晶圆代工厂的3纳米芯片良率不被大客户买单,哀求代工厂自己接管,缘故原由亦是如此。

下面这一套掩膜版是非常难得一见的,全套的芯片制造掩膜版,总计有30张掩膜版,按照芯片制造的流程顺序,从下往上逐步展示……

这套掩膜版展示的是芯片代工领域老大的180nm高压工艺,大家日常用到的很多电源管理充电芯片都是来自于这个制造工艺。










