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专利择要显示,本发明公开了一种超薄LED芯片的制备方法及超薄LED芯片,所述超薄LED芯片的制备方法包括:对外延片去除衬底,并在所述外延片的电流扩展层或N‑GaN层粘接复合型荧光材料载体,得到初始芯片;对初始芯片进行刻蚀,袒露出外延片的P‑GaN层和N‑GaN层;在所述P‑GaN层或电流扩展层上制备金属P电极,在所述N‑GaN层上制备金属N电极,在初始芯片上形成电极区域;在所述电极区域上覆盖钝化层,且在所述钝化层上袒露出所述金属P电极和所述金属N电极;对初始芯片进行划片,得到超薄LED芯片。通过采取复合型荧光材料载体作为LED芯片的衬底,知足LED芯片不同光色的发光光效哀求,同时知足小型化尺寸哀求。
本文源自金融界

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