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三星3月6日宣告,已在一条基于28纳米FD-SOI工艺的生产线上,开始大规模生产和商业运输嵌入式MRAM(eMRAM)办理方案。该公司在首尔近郊京畿道器兴厂房举行了仪式,标志着新内存产品的首次发货。

三星生产车间 图片来自韩国businessKorea网站

这种办理方案无需在数据记录期间擦除数据,并实现了比传统闪存快1000倍旁边的写入速率。三星表示,由于它在断电时保存了存储的数据,并且不该用额外的备用电源,以是它的功耗也很精良。
三星将FD-SOI工艺与嵌入式设计技能相结合。在FD-SOI工艺中,硅片上覆盖一层绝缘膜,在顶部形成晶体管。它的特点是大大降落了晶体管运行过程中产生的泄电流。该公司在FD-SOI进程中添加了嵌入式内存技能。嵌入式存储技能是一种存储模块,用于小型电子设备的微掌握器单元(MCU)和片上系统(SoC)等系统半导体中存储信息。
三星电子表示,该办理方案构造大略,可以通过在当前基于逻辑流程的设计中添加最少的层数来实现,从而减轻了公司进行新设计的包袱,并降落了生产本钱。三星操持扩大其嵌入式内存办理方案,从今年生产1块Gbe MRAM测试芯片开始。
行业剖析师表示,随着eMRAM的推出,三星将增加其代工发卖,同时增强其在代工方面的竞争力,以确保在未来半导体市场霸占领先地位。
三星操持明年推出18纳米FD-SOI eMRAM工艺。










