刻蚀机业务起身
中微公司紧张从事高端半导体设备的研发、生产和发卖，紧张产品包括刻蚀设备和MOCVD设备。
刻蚀机是公司的起身业务。2004年创立时，中微首先动手开拓甚高频去耦合的CCP刻蚀设备Primo D-RIE，目前己成功开拓双反应台Primo D-RIE，双反应台Primo AD-RIE和单反应台的Primo AD-RIE三代刻蚀机产品，涵盖65纳米、45纳米、32纳米、28纳米、22纳米、14纳米、7纳米到5纳米关键尺寸的浩瀚刻蚀运用。
公司的等离子体刻蚀设备已被广泛运用于国际一线客户，从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米的集成电路加工制造及前辈封装。
值得把稳的是，5纳米的刻蚀设备是目前天下最高水准。圆晶制程技能方面，14纳米目前是主流，台积电的7纳米生产线已经开始大规模生产，5纳米生产线已在培植中；三星2018年10月宣告7纳米制程进入量产阶段，5纳米工艺在研发过程中；英特尔7纳米工艺在研发中。
2018年12月，中微公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优秀，将用于环球首条5纳米制程生产线。5纳米是集成电路制程工艺最小线宽。台积电宣告，2019年将进行5纳米制程试产，估量2020年量产。
中微公司联合创始人倪图强曾表示，中微公司与泛林半导体、运用材料、东京电子、日立等4家美日企业组成了国际第一梯队，为7纳米芯片生产线供应刻蚀机，如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，估量能得到比7纳米更大的市场份额。
“公司干系产品值得认可。”华东一家大型公募的投研人士对中国证券报表示，半导体行业属于高端制造业，欧美日韩等地区在该领域处于绝对领先地位。中国在该领域的技能、人才、家当环境等方面和国际领先水平存在巨大差距。在这样的条件下，中微公司在部分集成电路设备领域做到环球领先水平是十分难得的。
该人士表示，公司的产品进入了国际一线客户，进入了最领先的5纳米生产线。但是，一线客户和5纳米生产线需求的设备是多种类的。中微紧张集中于此类设备，和国际领先的厂商例如运用材料、东京电子还存在差距。
中微公司另一块紧张产品是MOCVD设备，己开拓了三代MOCVD设备，可用于蓝绿光LED、功率器件等加工。目前公司的MOCVD设备已经三安光电等行业龙头的生产线上大规模投入量产。公司己成为天下排名前列、海内占主导地位的氮化镓基LED设备制造商。
静待国产替代机遇
得益于半导体行业的增长、环球产能向中国大陆转移，以及公司技能研发、产品品质、品牌信誉度、客户资源等方面的上风，报告期内公司主营业务收入保持快速增长。2017年度、2018年度，增长率分别为59.41%、68.66%。2016-2018年，公司营收分别为6.09亿元，9.71亿元和16.39亿元；净利润分别为-2.38亿元、2990万元和9000万元。
公司MOCVD设备业务增长迅速，远快于刻蚀设备。2016年，公司MOCVD设备发卖仅3腔，到2017年单年发卖57腔，贡献营收5.3亿元。2018年，该业务业务收入达8.3亿元，占营收总额比例超过50%，一跃成为中微的第一大主营业务。
“以MOCVD市场的竞争格局看，2017年前环球只有Veeco和Aixtron供货，2018年中微霸占MOCVD新增市场41%。个中，2018年二季度占比达到60%以上。公司取得的成绩斐然。”申万宏源(港股06806)研究所副总经理、首席剖析师王胜表示。
目前，公司电容性刻蚀设备的环球市场份额约1.4%，2018年公司干系业务收入贡献营收5.7亿元，占业务总额比例为34%。
“作为一家后起厂商，公司产品推广存在一些困难。芯片制造属于极高端制造业，对制造设备的哀求非常高，芯片制造厂商不愿意轻易改换设备供应商。中微的产品纵然性能上达到国际领先水平，客户也没有很强的动力去改换，尤其是国际客户。以是，产品的推广是一个漫上进程，须要付出很多韶光和精力。”前述公募人士表示。
王胜表示，半导体刻蚀设备产品的技能壁垒高，新产品冲要破，要与原产品保持同等性能的根本上，价格有上风才能逐步替代。因此，半导体设备行业的格局常日难以撼动。在海内厂商现有产线链逐渐向海内转移的趋势下，海内精良公司有机会做大做强。参照公司MOCVD的拓展，公司将逐渐打破市场，形成对外洋公司产品的替代。
“半导体设备市场规模2018年预估621亿美元，空间足够大，壁垒足够高。历史上有ASML、运用材料等公司成为行业巨子，牢牢把握着行业定价权。在内外部环境推动下，看好公司业务不断打破向上。”王胜说。
科研实力突出
中微公司的科研实力突出。招股书显示，公司申请了1201项专利。个中，发明专利1038项，外洋发明专利465项。公司承担了两项国家科技重大专项科研项目。截至2018年底，公司员工人数653人，技能职员381人，占比达到60%；2018年，公司研发投入达到1.18亿元。
前述公募人士表示，从职员的数量和质量、从研发投入的规模看，中微公司的研发实力处于海内顶级水平，和国际领先水平还存在一定差距。不过，公司的几位核心技能职员均在英特尔、运用材料等国际领先的半导体公司有长达20-30年的事情经历，家当和研发履历丰富。
公司创始人、董事长尹志尧是半导体设备家当的传奇人物，也是公司研发团队的核心。招股解释书显示，尹志尧在半导体芯片和设备家当有35年行业履历，是国际等离子体刻蚀机技能发展和家当化的主要推动者。
尹志尧1980年赴美国加州大学洛杉矶分校攻读物理化学博士，毕业后进入英特尔中央研究开拓部事情，担当工程师；1986年加盟泛林半导体，开拓了包括Rainbow介质刻蚀机在内的一系列成功的等离子刻蚀机，使得陷入困境的泛林一举击败运用材料，跃升为环球最大的等离子刻蚀设备制造商，占环球40%以上的刻蚀设备市场。目前，尹志尧是89项美国专利和200多项其他外洋专利的紧张发明人。
“公司高度重视研发投入与自主核心技能。2016年-2018年，公司累计研发投入10.37亿元，约占业务收入的32%。公司在与国际半导体设备领先公司数轮的商业秘密和专利诉讼中均达成和解或胜诉，证明了公司踏实的自主知识产权根本和应对国际繁芜知识产权寻衅的能力。”王胜对中国证券报表示。
本文源自中国证券报
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