半导体设备-中微公司_装备_亿元

公司的等离子体刻蚀设备已在国际一线客户从 65 纳米到 14 纳米、7 纳米和 5 纳米的集成电路加工制造及前辈封装中有详细运用。
公司的 MOCVD 设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产，公司已成为天下排名前列、海内盘踞先地位的氮化镓基 LED 设备制造商

2 紧张产品

2.1 刻蚀设备CCP和ICP

等离子体刻蚀是目前最为常见的干法刻蚀，

中微公司从 2004 年建立起首先动手开拓甚高频去耦合的 CCP 刻蚀设备Primo D-RIE，到目前为止已成功开拓了双反应台 Primo D-RIE，双反应台 PrimoAD-RIE 和单反应台的 Primo AD-RIE 三代刻蚀机产品

中微公司从 2012 年开始开拓 ICP 刻蚀设备，到目前为止已成功开拓出单反应台的 Primo nanova 刻蚀设备，同时动手开拓双反应台 ICP 刻蚀设备。
公司的ICP 刻蚀设备紧张是涵盖 14 纳米、7 纳米到 5 纳米关键尺寸的刻蚀运用。

刻蚀设备竞争格局

Gartner数据显示，中微公司、北方华创、屹唐半导体均进入环球干法刻蚀前十供应商，环球市场分别分别达1.37%、0.89%、0.10%。

2.2 MOCVD设备

MOCVD设备是LED芯片制造环节代价占比最高的设备

根据HIS Market统计，2018年中微彻底冲破了维易科和爱思强在MOCVD设备的垄断地位，占环球新增氮化镓基LED MOCVD市场份额高达41%，下半年环球占比更是超过60%，霸占量环球第一，2020年公司MOCVD设备实现营收4.96亿元

于 2021 年 6 月 17 日，中微公司发布的PrismoUniMax™ MOCVD设备能够帮助客户在Mini-LED生产过程中实现精良的波长均匀性，器件的稳定性和可靠性及合格率

MOCVD竞争格局

LED家当海内占比很大，以是中微公司在技能打破后，取得了很大份额

2.3 VOC设备

刻蚀设备收入占比逐渐提高，2021Q3已经达到70%旁边；YOY坚持70%以上；

3.1紧张客户

根据客户的技能发展需求，正在进行下一代产品的技能研发，以知足5nm以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和128层以上的3D NAND芯片等产品的ICP刻蚀需求，并进行高产出的ICP刻蚀设备的研发。
目前公司刻蚀产品已进入中芯国际、长江存储、台积电、海力士、联华电子、格罗方德等国内外有名企业供应链；也是台积电的刻蚀设备，首家海内供应商；

2021年前三季度公司实现业务收入20.73亿元，同比+40.40%。
个中刻蚀设备收入为13.52亿元，同比+99.01%，紧张系半导体设备行业景气度持续提升及公司产品竞争力持续加强；MOCVD设备收入为3.04亿元，同比-24.27%，紧张系LED设备市场仍呈现下滑态势及公司2021年新签Mini-LEDMOCVD设备规模订单尚未发货所致。

公司实现归母净利润5.42亿元，同比+95.66%，个中非常常性损益约3.77亿元，包括2.57亿元确当局补助和1.73亿元的投资收益等

新签订单充足，条约负债&存货高增　　截至2021Q3末，公司条约负债为8.93亿元，同比+76.75%；存货为16.58亿元，同比+38.11%，紧张系公司新签订单充足，2021年1-9月新签订单金额达35.2亿元，同比+110%。

公司是晶圆制造环节唯一进入环球龙头晶圆厂供应链的国产设备商，技能水平达到5nm前辈制程，享有龙头的估值溢价

4 研发实力4.1公司重视研发投入，研发支出占营收比重保持在 20%以上

截至 2021 年 6 月 30 日，公司已申请 1,870项专利，个中发明专利 1,613 项；已获授权专利 1,106 项，个中发明专利 945项。
公司的发明专利“等离子体

公司 2021 年定向增发资金部分用于新产品的研发事情，紧张包括等离子体刻蚀设备、薄膜沉积设备等上风产品，技能储备情形良好，部分产品已经拥有干系核心专利。
新产品的研发有助于公司不断巩固和提高技能前辈性，帮助公司进一步提高产品的市占率，连续在细分领域保持上风地位。