SK海力士将进级中国半导体工厂 采用第四代10纳米工艺_半导体_无锡

SK海力士

业内人士透露，SK海力士操持今年将个中国无锡工厂的部分DRAM生产设备提升至第四代10纳米工艺。
然而，对付“无锡工厂将进行技能升级”的，SK海力士方面表示“无法确认工厂的详细运营操持”。

据理解，无锡工厂是SK海力士的核心生产基地，其产量约占公司DRAM总产量的40%。
目前，无锡工厂正在生产两款较旧的10纳米DRAM。
宣布认为，SK海力士对无锡工厂进行技能升级并不随意马虎，由于自2019年以来，美国为阻挡中国半导体家当崛起，单方面限定了制造尖端半导体必需的EUV光刻机出口中国。

只管如此，随着环球半导体市场进入复苏阶段，SK海力士认为高性能芯片产能扩展已经刻不容缓，须要10纳米级第四代DRAM或更高版本产品来坚持其市场份额。

媒体剖析称，SK海力士的这一举动反响了环球半导体市场的变革和中国半导体家当的快速发展。
在环球半导体市场复苏的背景下，中国半导体家当的提升无疑将为环球半导体家当的发展注入新的活力。