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动图加具体解释:让你一下看懂芯片是若何制造出来的_芯片_晶体管

雨夜梧桐 2024-08-29 08:13:22 0

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芯片可以被称为当代信息家当的粮食,如果没有芯片,所有的信息产品都要停摆。
比来美国对华为的制裁,传说中的对中芯国际的制裁,都是想从根本上阻挡中国信息家当的发达发展之势。

芯片是如此的主要,大家也对芯片行业的发展动态十分的关注。
故而很多人也想更清楚地理解,芯片到底是如何制造出来的。
本文通过一系列动图向你展示全体芯片的制造流程。
芯片的出身过程,可以分为设计、制造、封测三大步。

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设计

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(图片来自网络侵删)

芯片的出身总是从设计开始的。
下面你所看到的,便是芯片的设计图。

芯片设计图

在芯片设计图中,你可以看到很多这样的符号:

晶体三极管

这些都是晶体管的符号。
晶体管有三个管脚,高下两个管脚C和E之间可以流过电流,而中间那个B管脚则是一个开关,决定了C和E之间能否有电流利过。
看起来就彷佛下图一样,

晶体监工作示意图

当然,点按开关的小手指头,只不过是一个可爱的仿照;真实的实现,是通过B管脚的电流来掌握,直不雅观来说如下图所示,

晶体管的事情事理

我们都知道,在数字化系统中,信息都有0、1来代表,因此晶体管这种开与关的状态天然与0、1状态符合合,自然而然就成了数字电路中最基本的组成部分。
换句话说,用一定数量的晶体管,就能实现我们想要的功能;想要得到更多更好的功能,就要增加晶体管数量。
如果我们把芯片比做一栋大厦,那么晶体管便是培植这栋大厦的每一块砖。

一开始,晶体管长成这样:

晶体管

是不是觉得有点占地方?于是,人们就想办法把晶体管做小,就涌现了集成电路,也便是芯片。
在芯片里,集成了大量的晶体管。
对同样面积的芯片来说,每一个晶体管的尺寸越小,能容纳的晶体管数量就越多,芯片功能就越强大。
大略来说,晶体管两个管脚之间的间隔被定义为线宽,线宽越窄,则晶体管就越小,那么芯片能容纳的晶体管就越多。
我们常说某种芯片采取了5纳米或者7纳米的工艺,这里面的5纳米或7纳米指的便是晶体管的线宽。
以华为最新的麒麟1020芯片为例,采取的是台积电5nm工艺,晶体管数量达到了惊人的150亿。

麒麟1020是当前世界上最前辈的手机处理器

制造

芯片设计好了,该怎么制造呢?芯片是在一块圆型的高纯度硅片上进行制造的,人们管它叫做晶圆(Wafer)。
硅的纯度非常高,用于做芯片的硅能达到11个9的纯度,便是99.999999999%。

晶圆由高纯度的硅制成

晶圆有不同的直径。
随着技能的进步,晶圆的直径总是在增加。
大晶圆能生产更多的芯片,更少的摧残浪费蹂躏,因此能带来更好的制造效率,降落本钱。
近年来,晶圆的直径从4英寸(100mm)、6英寸(150mm),已经增加到8英寸(200mm)、12(300mm)英寸。
未来还会增加到15英寸乃至20英寸。

不同的晶圆尺寸

制造芯片的过程,实质上来说便是在硅材料上实现一个个晶体管的过程。
芯片里面的晶体管可以抽象成下图中的模式:

芯片里的晶体管

在硅晶体的上面,须要有一个二氧化硅绝缘层,再上面还有一个导电硅化合物层(图中赤色部分),起到开关的浸染。
晶体管的电流流动模式如下图所示:

晶体管内的电流流动

全体芯片的制造过程分为很多眇小的步骤。
首先晶圆要放进加热炉(Furnace)里,炉子的温度有1000℃,目的是将晶圆表面氧化,形成二氧化硅绝缘层。

晶圆被放进加热炉中氧化

然后,在晶圆表面涂上光刻胶,这是为了进行晶圆曝光做准备。

涂光刻胶

至此,所有的准备事情都做完了,下一步便是上光刻机了。
在曝光之前,你须要有光掩膜(Mask)。
这是一块绘有电路图的玻璃,光刻机就要把上面的电路图投影到晶圆上面去。
光掩膜是非常贵的,几十万美元很常见,贵的乃至超过一百万美元。

光掩膜

晶圆曝光的事理很大略,便是光通过掩膜和镜头,投射到晶圆上面去。

晶圆曝光的事理

现在进行晶圆曝光的光源常日是深紫外光(DUV)或者极紫外光(EUV)。
光刻机曝光的过程可以看下图:

光刻机进行晶圆曝光

事理虽然大略,但实行曝光操作的光刻机则是超级繁芜的机器,号称人类有史以来做过的最繁芜的机器。
在所有芯片生产步骤里,中国企业与天下前辈水平差距最大的便是光刻机;其他领域虽然也有差距但办理起来都比光刻机随意马虎。
换句话说,只要中国的光刻机水平能与天下前辈水平看齐,则中国整体芯片生产能力也将达到天下前辈水平。
光刻机包括了光源,透镜和双工件台三大部分,双工件台相称于放晶圆的架子。
光刻机的内部构造见下图,

光刻机的内部构造

曝光之后,就要把晶圆上不须要的部分去掉,须要的部分保留。
下一道工序就叫做蚀刻,常用的方法是等离子蚀刻,晶圆在蚀刻机受到等离子体的轰击,不须要的部分就被去除了。

蚀刻机在事情

再下一步便是离子注入,也叫做掺杂--硅片内须要掺入一些元素以改变硅的导电性能。
在离子注入机里,这些元素的带电离子被加速后撞击晶圆,进入硅片内部。

离子注入设备

这个步骤完成之后,一个曝光流程就基本结束了。
常日每次曝光制作的只是芯片的一部分,完全的芯片须要多次曝光完成。
于是又要重复之前说过的氧化、镀膜、光刻、蚀刻、掺杂等步骤,繁芜的芯片要反复操作好几十次,才能终极完成。

封测

对芯片代工厂来说,处理完成的晶圆是这样的。

代工厂加工好的晶圆

再下一步的事情便是送去封测厂,先对晶圆进行切割,就得到了一个个的裸片,die。

切割晶圆

裸片放到得当的包装里 ,再经由检测,就成为芯片了。

芯片常见的封装形式

如果以上阐明你看的不过瘾,可以在我们头条主页看一个由佰思科学制作的2分半钟的芯片制作视频!

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