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专利择要显示,本发明供应了一种阳极键合构造、硅压阻式压力传感器及其制备方法,所述制备方法包括:供应SOI衬底;利用顶部硅层,在第二绝缘层上形成压敏单元及与压敏单元连接的引出单元,至少一引出单元由器件区延伸至划片区;在划片区的第二绝缘层中形成多少通孔暴露中间硅层;在引出单元上形成第持续接件及第二连接件,第持续接件位于器件区与引出单元电性连接,第二连接件利用通孔连接中间硅层与引出单元;以中间硅层作为阳极,实行阳极键合工艺;实行划片工艺。本发明中,以中间硅层作为阳极,利用其较大的硅层暴露面积,可在相同的键合电压下开释更大电量到结合面,形成更强的静电结合力,从而提高阳极键合工艺后的键合强度。
本文源自金融界