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专利择要显示,本发明公开了一种电磁屏蔽封装构造的制造方法,包括以下步骤:S100,在来料框架背面贴上防溢膜;S200,在框架上涂上导电胶,从晶圆上吸取单颗芯片,固定到框架指定位置并通过导电胶固定;S300,在芯片的旗子暗记传输口中导出金属线与框架引脚实现电气连接;S400,利用环氧树脂注塑成型;S500,将注塑成型的框架的各单元间的塑封体划槽;S600,在框架的塑封体上镀上一层磷镍;S700,在框架的塑封体上镀上一层铜;S800,在框架的塑封体上镀上一层镍;S900,在框架上镀上一层锡;S1000,将框架各单元彻底划开,成为单颗产品。本发明能有效避免磁场对芯片的滋扰,可在高磁场下正常事情。
本文源自金融界