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第一个能够生产采取350纳米或更厚工艺技能芯片的俄罗斯光刻工具已经出厂，并正在泽列诺格勒进行测试。这种成熟的芯片工艺可用于一些汽车和电源芯片，也可以用于军事设备。估量该设备比市场领先产品掉队约30年。
“我们组装并制造了第一台国产光刻扫描仪，”俄罗斯工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克（Vasily Shpak）见告塔斯社。“它目前正在作为泽列诺格勒技能生产线的一部分进行测试。”
这一发展标志着俄罗斯半导系统编制造技能能力的一个主要里程碑。然而按照天下一流标准，350 纳米是一项极其过期的技能。Intel分别于1995年和1997年在此节点上生产了Pentium MMX、Pentium Pro和最初的Pentium II处理器，AMD在1997年将该节点用于K6处理器。
纵然对付俄罗斯来说，350纳米制造工艺也可被认为已过期，由于该国的两家芯片条约制造商——Angstrem和Mikron——不供应这种生产节点。Angstrem和Mikron都拥有从250纳米到90纳米的多种工艺技能。
目前，尚不清楚俄罗斯光刻工具如何商用，但可以预测其紧张目标是作为更繁芜的光刻机的开拓工具。
俄罗斯半导体行业的发展速率比该国政府在2023年宣告的速率要慢得多。此条件出的短期目标包括在2023年底前提高采取90纳米技能确当地芯片产量，长期目标是到2027年建立28纳米制造，然后到2030年节制14纳米节点。
你可能会问，如果俄罗斯由于缺少本地人才和最新的电子设计自动化工具而无法开拓繁芜的芯片，为什么还须要前辈的芯片制造工具。它也没有海内原材料来制造当代技能的芯片。此外，俄罗斯实体由于众所周知的缘故原由无法得到前辈CPU内核或芯片IP的容许。对付这些问题，我们只能拭目以待。
