佳能明确表示,这套新的生产设备的事情事理与行业领导者ASML的设备截然不同。它并非采取光刻技能,而是采取了更类似于印刷的技能。这种技能并没有利用图像投影的事理将集成电路的微不雅观构造转移到硅晶圆上。这套设备可以运用于最小14平方毫米的硅晶圆,从而可以生产出相称于5nm工艺的芯片。
据理解,纳米印刷(Nanoprinted lithography)常日被认为是光学光刻的低本钱替代品。在过去,SK海力士和铠侠等存储芯片制造商曾考试测验过利用这种技能。然而,铠侠在进行了一系列的测试后,却遭到了潜在客户的投诉。这些客户认为,利用纳米印刷技能生产的产品毛病率较高,因此末了选择放弃了这种技能。然而,佳能的新设备是否能够改变这一现状,我们拭目以待。
佳能公司对这套系统充满信心,并表示他们会连续改进和发展这套系统。他们的目标是,未来这套系统有望能够用于生产2纳米的芯片。
