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不过大家也清楚，光刻机目前环球只有4家厂商能够生产，分别是ASML、尼康、佳能、上海微电子，ASML是荷兰企业，尼康、佳能这天本企业，而上海微电子是中国企业。
如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度。个顶用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产。
而尼康能搞定高真个7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还勾留在90nm，只能生产低真个光刻机。
不过也有人称，光刻机所指的精度，并不是指能制造芯片的精度，光刻机可以通过多次曝光，提升分辨率的，那么问题就来了，上海微电子的90nm光刻机，最多能生产多少纳米的芯片？
据资料显示，目前上海微电子的90nm的光刻机，紧张用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各种数模稠浊电路等。
而在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经由两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm旁边的水平。
那么能不能四次曝光，五次曝光，将精度提升上去？事实上，在实际利用中，2次曝光就已经很厉害了，像ASML等的光刻机 ，大多也只是进行2次曝光。
由于实践表示，3次曝光会导致良率大幅度低落，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的本钱高到没法承受，不如买一台更高等光刻机，本钱还低一些。
以是，目前海内涵努力的研发28nm的光刻机，这样经由两次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工艺，那最好还是期待EUV光刻机，用28nm的来曝光三次，良率没法看。
不过，在全体半导体家当链，流传说一句话，那便是“靠山山倒，靠大家跑，只有自己最可靠”。
以是像光刻机这种东西，只有节制在我们自己手中，才能避免受制于人，虽然EUV光刻机非常难，但也不得不去占领。
