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SU-8光刻胶常用2000系列、3000系列到货啦，美国原装入口，无需预定！
无需等待！
新型的化学增幅型负像 SU-8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶，战胜了普通光刻胶采取 UV光刻导致的深宽比不敷的问题，十分适宜于制备博识宽比微构造。
新型的化学增幅型负像 SU-8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶，战胜了普通光刻胶采取 UV光刻导致的深宽比不敷的问题，十分适宜于制备博识宽比微构造。
SU-8光刻胶的优点：
1、SU-8光刻胶在近紫外光(365nm- 400nm)范围内光接管度很低，且全体光刻胶层所得到的曝光量均匀同等，可得到具有垂直侧壁和博识宽比的厚膜图形；
4、SU-8胶不导电，在电镀时可以直接作为绝缘体利用。
由于具有较多优点，SU-8 胶正被逐渐运用于 MEMS、芯片封装和微加工等领域。目前，直接采取 SU8 光刻胶来制备深宽比高的微构造与微零件已经成为微加工领域的一项新技能。在微流控芯片加工中，SU-8紧张用于快速模塑法加工PDMS微流控芯片。
利用SU8光刻胶加工模具浇铸PDMS芯片示意图
