近日，台积电创始人张忠谋在大师智库论坛上揭橥的辞吐再次触痛大众的心。
他表示，目前中国大陆还不是对手，半导系统编制造仍旧掉队台积电至少5年。
这不得不让我们再次思考一个问题，为何奋斗近20年、补贴几百亿美元，却依然如此掉队？
张忠谋这句话的确是听着不舒畅，但是不管你承认与否，这便是事实。至于说掉队几年这个问题，根本没故意义去辩论，掉队5年难道比掉队10年更光彩吗？
华为事宜之后，我们才开始认识到我们制造业须要的补的作业太多，材料、高端机床、工业软件等等，哪个不是狠狠卡着我们的脖子。
一些网友天真认为，我们只要有了EUV光刻机，什么7nm、3nm乃至2nm的芯片，都将不在话下。究其根本，是没有搞懂设备与生产工艺之间的关系。有了光刻机，你还得得搞懂光源掌握、曝光韶光、利用几层光刻板等生产工艺，这样才能有效提升芯片生产的良率。
光有光刻机，间隔芯片量产还有很大一截！
这也是为什么当初中芯国际只希望购买一台EUV光刻机，由于买多了还真用不上。
再次，当初台积电三代7nm工艺中，前两代便是DUV光刻机实现7nm量产（宣扬7nm，实际上与intel的10nm工艺差不多）。而中芯国际到目前为止，也还没有量产7nm，足可见我国在芯片制造方面的差距远不止一台EUV光刻机。
这里还须要跟大家说一个问题，14nm、7nm工艺只是一个代表特定尺寸和技能的商业名称，并不是真正晶体管源极和漏极的间隔。就像中国白酒的5年、10年、30年，并不是真正窖藏的韶光。
“自主创新”背后存在的认知偏差这些年，补贴也不少，政策扶持也做了很多，虽然有效果，但是面对美国的压力，却依然显得比较无力。
问题出在哪里？究其根源是“自主创新”思维层面的问题。
你以为我们的高层是这几年才知道要自主创新吗？早在上个世纪90年代就有自主创新的声音，当时中国国产彩电品牌正在经历与外资企业之间的死活搏杀。
但是，这个“自主创新”的口号却让中国走了不少弯路。在科技、经济掉队的情形下提出“自主创新”，如何详细落实便是一个摸索的过程。
反不雅观中国工业历史，我们就会创造对“自主创新”的解读存在两方面的误区。
一是，创新只有处于技能领先的情形下才能发生，以是掉队的国家只有接管前辈国家技能。可是，事实并非如此。当初韩国在工业和技能根本都不如我国的情形下，也是在进行技能引进之后进行自主创新，进而实现科学技能的发展。
日本更是如此，在一度掉队的情形下，居然在处理器领域一度碾压美国企业。
二是，学习国外技能和依赖国外技能混为一谈。当时比较火的两个理论，“比较上风理论”和“技能借用理论”，直接导致我国采纳了“以市场换技能”的政策导向。
掉队的情形下，很多人都认为中国在研发方面不具有比较上风，以是只能引进技能并集中发展劳动密集型经济。片面认为只要成本要素的增加就可以直接导致技能进步和家当构造升级。
但是现在看，这种技能引进不但没有让中国科技得到长足发展，反而更加依赖国外技能。
技能水平的提升和技能能力的提升，都必须要依赖以自主研发为紧张路子的技能学习。
结束语现在看来，这些想法可能很搞笑。但是事实便是这样，当时险些没有人提出“市场换技能”有什么问题。就像2018年大家都在高呼“厉害了，我的国”，可是当时有几个人能够复苏认识到我们的国还不是那样强大。
以是，只有全体社会思潮都能精确认识到“自主创新”，我们的科学技能才能真正得到长足发展。
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