中国光刻机晚事：研发比ASML早20年却落后这么久呢？_光刻_中国

与之比拟的是，中国企业目前生产的光刻机，还是90nm，属于ArF类型，中间还差了ArFi(浸润式)这么一大代，至于小的技能演进，则不知道有多少代。

从ArF到EUV光刻机，中间须要多少年，谁也不清楚，大概几年，大概几十年，由于技能的打破，有时候很快就打破了，也有可能永久也打破不了。

很多人可能以为奇怪，ASML是1984年才成立的，当时还只是飞利浦的一个小部门而已，而中国早在20世纪60年代，就研发光刻机了，在1965年的时候，中国科学院就有了65型打仗式光刻机。

这样提及来，中国研发光刻机比ASML最少早了20年，末了ASML却火成这样，中国光刻机却掉队这么多呢？

实在这背后有很多细节，是值得我们回味和反思的。

一是中美在在1971年建交，为了表示“诚意”，美国说很多东西，你们不必要研发了，找我们买便是了，没必要摧残浪费蹂躏钱去研发，还不一定研发的出来。

于是在70末、80年代，很多大的研发项目就停了，从国外买或租，由于这样确实本钱低一些，毕竟那时候大家看的也没这么长远，光刻机项目那时候实在也差不多是停了，这一停差不多便是20来年，直到21世纪才算是再次重启研发。

而ASML呢？自成立之后，就一贯很努力，探求各种机会，1986年推出了第二代产品PAS-2500。

后来在90年代末，更是豪赌台积电林本坚提出的浸润式光刻机方案，一下子就成功了，而不愿意赌浸润式光刻机的尼康、佳能掉队了，ASML一举成为霸主。

后来intel、ASML等几家公司一起研发了EUV，大家看到EUV技能难度大，本钱高，不想搞了， 只有ASML决定再赌一把，笃定要做EUV。

研发EUV要钱，ASML没有，怎么办呢？于是ASML还说服了英特尔、三星、台积电这三家芯片厂一起入股自己，得到了三家厂商约55亿欧元的资金，来研发EUV光刻机。

未曾想ASML又研发成功了，EUV光刻机研发出来后，ASML将蔡司等核心伙伴都捆绑在了自己的战车上，形成利益共同体，导致其它光刻机厂商，很难研发不出EUV光刻机了。

由此可见，中国起步虽然比ASML早20年，但中间实在又耽搁了20来年，再加上各种缘故原由，比如后来美国的打压限定，以及机遇，ASML设的坎等等，终极造成了当前这种征象。

但不管怎么样，研发光刻机，我们没有退路，再难也得研发出来，否则就会一贯被人卡住脖子，前辈工艺的芯片就会受限，这是我们不能接管的。