无损检测X-Ray X-Ray是利用阴极射线管产生高能量电子与金属靶撞击，在撞击过程中，因电子溘然减速，其丢失的动能会以X-Ray形式放出。而对付样品无法以外不雅观办法不雅观测的位置，利用X-Ray穿透不同密度物质后其光强度的变革，产生的比拟效果可形成影像，即可显示出待测物的内部构造，进而可在不毁坏待测物的情形下不雅观察待测物内部有问题的区域。做事范围：产品研发，样品试制，失落效剖析，过程监控和大批量产品不雅观测做事内容：1.不雅观测DIP、SOP、QFP、QFN、BGA、Flipchip平分歧封装的半导体、电阻、电容等电子元器件以及小型PCB印刷电路板 2.不雅观测器件内部芯片大小、数量、叠die、绑线情形 3.不雅观测芯片crack、点胶不均、断线、搭线、内部气泡等封装毛病，以及焊锡球冷焊、虚焊等焊接毛病 无损检测3D X-Ray X-Ray是利用阴极射线管产生高能量电子与金属靶撞击，在撞击过程中，因电子溘然减速，其丢失的动能会以X-Ray形式放出。而对付样品无法以外不雅观办法不雅观测的位置，利用X-Ray穿透不同密度物质后其光强度的变革，产生的比拟效果可形成影像，即可显示出待测物的内部构造，进而可在不毁坏待测物的情形下不雅观察待测物内部有问题的区域。做事范围：产品研发，样品试制，失落效剖析，过程监控和大批量产品不雅观测做事内容：1.不雅观测DIP、SOP、QFP、QFN、BGA、Flipchip平分歧封装的半导体、电阻、电容等电子元器件以及小型PCB印刷电路板 2.不雅观测器件内部芯片大小、数量、叠die、绑线情形 3.不雅观测芯片crack、点胶不均、断线、搭线、内部气泡等封装毛病，以及焊锡球冷焊、虚焊等焊接毛病 无损检测超声波扫描显微SAT 超声波扫描显微镜的运用领域半导体电子行业：半导体晶圆片、封装器件、大功率器件IGBT、红外器件、光电传感器件、SMT贴片器件、MEMS等;材料行业：复合股料、镀膜、电镀、注塑、合金、超导材料、陶瓷、金属焊接、摩擦界面等；生物医学：活体细胞动态研究、骨骼、血管的研究等.塑料封装IC、晶片、PCB、LED超声波扫描显微镜运用范围：超声波显微镜的在失落效剖析中的上风非毁坏性、无损检测材料或IC芯片内部构造可分层扫描、多层扫描履行、直不雅观的图像及剖析毛病的丈量及毛病面积和数量统计可显示材料内部的三维图像对人体是没有侵害的可检测各种毛病（裂纹、分层、夹杂物、附着物、空洞、孔洞等） 无损检测IV 验证及量测半导体电子组件的电性、参数及特性。比如电压-电流。集成电路失落效剖析流程中，I/V Curve的量测每每是非毁坏剖析的第二步（外不雅观检讨排在第一步），可见Curve量测的主要性。做事范围：封装测试厂，SMT领域等做事内容：1.Open/Short Test 2.I/V Curve Analysis 3.Idd Measuring 4.Powered Leakage（泄电）Test 喷金镀膜 们平时在做FIB或者SEM时会碰着这样的问题，由于设备适用于导电性良好的材料成像或加工，对付材料导电性一样平常或不导电的材料该当如何测试加工呢？这个时候我们可以用一些方法赞助增加材料的导电性，比如为材料喷金，镀pt，粘导电胶等等，除了设备本身自带的功能外，还可以用镀膜机来处理样品。镀膜机操作大略，用度低廉。可以为样品表面增加导电材料。北软检测失落效剖析实验室镀膜机，是一款多功能紧凑型机器泵磁控离子真空镀膜系统，对付FIB/SEM样品制备及其它镀膜运用非常空想。直径为165mm/6.5”的腔室可容纳多种须要镀导电膜的样品 – 尤其用于在FIB/SEM运用中提高成像质量。各种镀膜材质选择：金 – 常规SEM运用时利用最普遍的靶材；溅射速率快且导电效果最好。 银 – 高导电性且具有高的二次电子发射率。溅射上去的银易于去除，可使样品成像后还原到其原来状态。 铂 – 在机器泵抽真空的溅射镀膜系统中它的颗粒尺寸最小，且具有优秀的二次电子发射能力。 钯 – 用于x射线能谱剖析非常空想，因其谱线分布冲突相对较低。 金/钯合金（80:20%） - 通过限定沉积期间金颗粒的团圆，钯可提高终极分辨率。 碳丝蒸镀 – 碳丝蒸镀过程的闪蒸特性及快速改换碳丝的能力，使其处理样品速率非常快。 碳棒蒸发 – 用于须要减慢速率但可控性更好的蒸发过程，可制备更趋向无定形的碳膜。 聚焦离子束显微镜FIB FIB（聚焦离子束，Focused Ion beam）是将液态金属离子源产生的离子束经由离子枪加速，聚焦后照射于样品表面产生二次电子旗子暗记取得电子像，此功能与SEM（扫描电子显微镜）相似，或用强电流落子束对表面原子进行剥离，以完成微、纳米级表面描述加工。做事范围：工业和理论材料研究，半导体，数据存储，自然资源等领域做事内容：1.芯片电路修正和布局验证 2.Cross-Section截面剖析 3.Probing Pad 4.定点切割 微光显微镜EMMI 对付故障剖析而言，微光显微镜（Emission Microscope, EMMI）是一种相称有用且效率极高的剖析工具。紧张侦测IC内部所放出光子。在IC元件中，EHP（Electron Hole Pairs）Recombination会放出光子（Photon）。如在P-N结加偏压，此时N阱的电子很随意马虎扩散到P阱，而P的空穴也随意马虎扩散至N，然后与P真个空穴（或N真个电子）做EHP Recombination。做事范围：故障点定位、探求近红外波段发光点做事内容：1.P-N接面泄电；P-N接面崩溃 2.饱和区晶体管的热电子 3.氧化层泄电流产生的光子引发 4.Latch up、Gate Oxide Defect、Junction Leakage、Hot Carriers Effect、ESD等问题 扫描电镜SEM SEM描述不雅观测扫描电镜（SEM）可直策应用样品表面材料的物质性能进行微不雅观成像。做事范围：军工，航天，半导体，前辈材料等做事内容：1.材料表面描述剖析，微区描述不雅观察 2.材料形状、大小、表面、断面、粒径分布剖析 3.薄膜样品表面描述不雅观察、薄膜粗糙度及膜厚剖析 4.纳米尺寸量测及标示 能谱身分剖析EDX EDX身分剖析EDX是借助于剖析试样发出的元素特色X射线波长和强度实现的，根据不同元素特色X射线波长的不同来测定试样所含的元素。通过比拟不同元素谱线的强度可以测定试样中元素的含量。常日EDX结合电子显微镜（SEM）利用，可以对样品进行微区身分剖析。做事范围：军工，航天，半导体，前辈材料等做事内容：微区身分定性剖析，剖析身分及大概比例 显微镜剖析OM 金相显微镜剖析：可用来进行器件外不雅观及失落效部位的表面形状，尺寸，构造，毛病等不雅观察。金相显微镜系统是将传统的光学显微镜与打算机（数码相机）通过光电转换有机的结合在一起，不仅可以在目镜上作显微不雅观察，还能在打算机（数码相机）显示屏幕上不雅观察实时动态图像，电脑型金相显微镜并能将所须要的图片进行编辑、保存和打印。做事范围：可供研究单位、冶金、机器制造工厂以及高档工业院校进行金属学与热处理、金属物理学、炼钢与铸造过程等金相试验研究之用做事内容：1.样品外不雅观、描述检测 2.制备样片的金相显微剖析 3.各种毛病的查找体视显微镜，亦称实体显微镜或解剖镜。是一种具有正像立体感的目视仪器，从不同角度不雅观察物体，使双眼引起立体觉得的双目显微镜。对不雅观察体无需加工制作，直接放入镜头下合营照明即可不雅观察，成像是直立的，便于操作和解剖。视场直径大，但不雅观察物哀求放大倍率在200倍以下。做事范围：电子精密部件装置检修，纺织业的品质掌握、文物 、邮票的赞助鉴别及各种物质表面不雅观察做事内容：1.样品外不雅观、描述检测 2.制备样片的不雅观察剖析 3.封装开帽后的检讨剖析 4.晶体管点焊、检讨 探针测试Probe 探针台紧张运用于半导体行业、光电行业。针对集成电路以及封装的测试。 广泛运用于繁芜、高速器件的精密电气丈量的研发，旨在确保质量及可靠性，并缩减研发韶光和器件制造工艺的本钱。做事范围：8寸以内Wafer，IC测试，IC设计等做事内容：1.眇小连接点旗子暗记引出 2.失落效剖析失落效确认 3.FIB电路修正后电学特性确认 4.晶圆可靠性验证体视显微镜，亦称实体显微镜或解剖镜。是一种具有正像立体感的目视仪器，从不同角度不雅观察物体，使双眼引起立体觉得的双目显微镜。对不雅观察体无需加工制作，直接放入镜头下合营照明即可不雅观察，成像是直立的，便于操作和解剖。视场直径大，但不雅观察物哀求放大倍率在200倍以下。做事范围：电子精密部件装置检修，纺织业的品质掌握、文物 、邮票的赞助鉴别及各种物质表面不雅观察做事内容：1.样品外不雅观、描述检测 2.制备样片的不雅观察剖析 3.封装开帽后的检讨剖析 4.晶体管点焊、检讨 硬针（全新） 型号 钨材质针须直径 针尖直径 针须长度T-4-5 5 微米 <0.2微米 0.13" （3.3mm）T-4-10 10微米 <0.2微米 0.13" （3.3mm）T-4-22 22微米 <2.0微米 0.20" （5.1mm）T-4-35 35微米 <4.0微米 0.20" （5.1mm）T-4-60 60微米 <6.0微米 0.20" （5.1mm）T-4-125 125微米 <10.0微米 0.20" （5.1mm） 软针/牛毛针（全新） 型号 钨材质针须直径 针尖直径 针须长度T-4-5 5 微米 <0.2微米 0.13" (3.3mm)T-4-10 10微米 <0.2微米 0.13" (3.3mm)T-4-22 22微米 <2.0微米 0.20" (5.1mm)T-4-35 35微米 <4.0微米 0.20" (5.1mm)T-4-60 60微米 <6.0微米 0.20" (5.1mm)T-4-125 125微米 <10.0微米 0.20" (5.1mm) 切割制样 可以预置程序定位切割不同尺寸的各种材料，可以高速自动切割材料，提高样品生产量。其微处理系统可以根据材料的材质、厚度等调度步进电动机的切割间隔、力度、样品输入比率和自动进刀比率。做事范围：各种材料，各种厚度模样形状切割做事内容：1.通过样品冷埋注塑得到样品的标准切面 2.小型样品的精密切割 Rie RIE是干蚀刻的一种，这种蚀刻的事理是，当在平板电极之间施加10～100MHZ的高频电压（RF，radio frequency）时会产生数百微米厚的离子层（ion sheath），在个中放入试样，离子高速撞击试样而完成化学反应蚀刻，此即为RIE（Reactive Ion Etching）。 做事范围：半导体，材料化学等 做事内容：1.用于对利用氟基化学的材料进行各向同性和各向异性蚀刻，个中包括碳、环氧树脂、石墨、铟、钼、氮氧化物、光阻剂、聚酰亚胺、石英、硅、氧化物、氮化物、钽、氮化钽、氮化钛、钨钛以及钨 2.器件表面图形的刻蚀 Dry Etching Dry Etching干法刻蚀,并从各向同性和各向异性的角度对Wet Etching湿法刻蚀进行分类先容,从物理和化学的角度对Dry Etching干法刻蚀 去铜制程 当集成电路芯片持续往轻、薄、短、小及高密度方向发展时，对毛病的容忍度也相对降落，随着集成电路器件密集度的提高，单位芯片的面积也越来越小，原来不会影响良率的毛病却变成了良率的致命杀手．因此，要得到较高的良率必须设法降落毛病的密度．当技能节点达到0.13μm及以下时，铜以其具有较小的电阻及较好的电迁移性子逐渐取代铝作为连线材料引．由于铜的难蚀刻，以是不能采取传统的铝制程的刻蚀工艺...... 去金属层（AL） 半导体检测实验室，能够依据国际、海内和行业标准履行检测事情，开展从底层芯片到实际产品，从物理到逻辑全面的检测事情，供应芯片预处理、侧信道攻击、光攻击、侵入式攻击、环境、电压毛刺攻击、电磁注入、放射线注入、物理安全、逻辑安全、功能、兼容性和多点激光注入等安全检测做事，同时可开展仿照重现智能产品失落效的征象，找出失落效缘故原由的失落效剖析检测做事，紧张包括点针事情站（Probe Station）、反应离子刻蚀（RIE）、微泄电侦测系统（EMMI）、X-Ray检测，毛病切割不雅观察系统（FIB系统）等检测试验。实现对智能产品质量的评估及剖析，为智能装备产品的芯片、嵌入式软件以及运用供应质量担保。咨询13488683602 微信icfa88 去Polyimide 聚酰亚胺(Polyimide，有时简写为PI)，是综合性能最佳的有机高分子材料之一。其耐高温达400°C以上 ，长期利用温度范围-200~300°C，部分无明显熔点，高绝缘性能 去Poly 在集成电路设计领域，POLY表示多晶材料(常日是多晶硅)的区域 去绝缘层 芯片表面绝缘层厚度对石墨烯散热效果的影响择要随着晶体管和集成电路尺寸的减小及密度的增加,芯片级的功率密度和空间分布给热管理带来了极大寻衅...... 去保护层 一样平常芯片表面保护层都是钝化层，材质为二氧化硅 氮化硅 rie就可以去 去Substrate 基材。多为硬质或软质绝缘板材，用于承载印制导电图形 去BGA上的PCB板 半导体检测实验室，能够依据国际、海内和行业标准履行检测事情，开展从底层芯片到实际产品，从物理到逻辑全面的检测事情，供应芯片预处理、侧信道攻击、光攻击、侵入式攻击、环境、电压毛刺攻击、电磁注入、放射线注入、物理安全、逻辑安全、功能、兼容性和多点激光注入等安全检测做事，同时可开展仿照重现智能产品失落效的征象，找出失落效缘故原由的失落效剖析检测做事，紧张包括点针事情站（Probe Station）、反应离子刻蚀（RIE）、微泄电侦测系统（EMMI）、X-Ray检测，毛病切割不雅观察系统（FIB系统）等检测试验。实现对智能产品质量的评估及剖析，为智能装备产品的芯片、嵌入式软件以及运用供应质量担保。咨询13488683602 微信icfa88 封装 IC Backside研磨 透过自动研磨机，从芯片背面进行研磨将Si基材磨薄至特定厚度后再进行抛光。紧张目的在使后续的EMMI或OBIRCH可以顺利从芯片背面进行剖析 定点研磨 适用于高精微（光镜，SEM，TEM，AFM，ETC）样品的半自动准备加工研磨抛光，模块化制备研磨，平行抛光，精确角抛光，定址抛光或几种办法结合抛光。做事范围：紧张运用于半导体元器件失落效剖析，IC反向做事内容：1.断面风雅研磨及抛光 2.芯片工艺剖析 3.失落效点的查找 非定点研磨 适用于高精微（光镜，SEM，TEM，AFM，ETC）样品的半自动准备加工研磨抛光，模块化制备研磨，平行抛光，精确角抛光，定址抛光或几种办法结合抛光。做事范围：紧张运用于半导体元器件失落效剖析，IC反向做事内容：1.断面风雅研磨及抛光 2.芯片工艺剖析 3.失落效点的查找 高温存储 适用于工业产品高温、低温的可靠性试验。对电子电工、汽车电子、航空航天、船舶兵器、高档院校、科研单位等干系产品的零部件及材料在高温、低温（交变）循环变革的情形下，考验其各项性能指标。做事范围：电工、电子、仪器仪表及其它产品、零部件及材料做事内容：1.高温储存 2.低温储存 3.温湿度储存 低温存储 适用于工业产品高温、低温的可靠性试验。对电子电工、汽车电子、航空航天、船舶兵器、高档院校、科研单位等干系产品的零部件及材料在高温、低温（交变）循环变革的情形下，考验其各项性能指标。做事范围：电工、电子、仪器仪表及其它产品、零部件及材料做事内容：1.高温储存 2.低温储存 3.温湿度储存 化学开封，激光开封 Acid Decap，又求乞学开封，是用化学的方法，即浓硫酸及发烟硝酸将塑封料去除的设备。通过用酸堕落芯片表面覆盖的塑料能够暴露出任何一种塑料IC封装内的芯片。去除塑料的过程又快又安全，并且产生干净无堕落的芯片表面。做事范围：常规塑封器件的开帽剖析包括铜线开封做事内容：1.芯片开封（正面/背面） 2.IC蚀刻，塑封体去除 电磁注入检测 在芯片精确实行密码运算过程中，定位被测芯片程序运行的某一特定时刻，注入得当能量的电磁脉冲，使芯片的运行产生非预期缺点，并剖析这些获取到的非预期缺点是否会造成芯片中敏感信息的透露。 做事内容：1.电磁操纵 2.差分缺点剖析 电压毛刺检测 在芯片精确实行密码运算过程中，或在芯片电源RST、CLK、 I/O引脚上注入得当深度和得当宽度的毛刺，使芯片的运行产生非预期缺点，并剖析这些获取到的非预期缺点是否会造成芯片中敏感信息的透露。做事内容：1.电源操纵攻击 2.其他操纵攻击 3.差分缺点剖析 激光注入检测 对芯片进行开封处理后，在芯片精确实行密码运算过程中，通过显微镜定位被攻击芯片表面某一特定区域，通过示波器等不雅观察设备定位密码算法运行的某一特定时刻，注入得当能量大小的激光脉冲，使芯片的运行产生非预期缺点，并剖析采集到的缺点是否会造成芯片中敏感信息的透露。做事内容：1.光注入攻击 2.差分缺点剖析 侧信道检测 芯片在实行密码算法过程中会产生韶光花费、功率花费和电磁辐射，利用密码系统实现时透露的功耗、电磁辐射等侧信道信息，考试测验推导密码系统中的密钥信息。做事内容：1.形象化功耗剖析 2.大略功耗剖析 3.差分功耗剖析 4.电磁辐射剖析
