ASML出货新光刻机NXT2000i：用于7nm/5nm DUV工艺_光刻_晶体管

NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的有效补充，毕竟台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。

同时，NXT:2000i也成为了ASML旗下套刻精度（overlay）最高的产品，达到了和3400B一样的1.9nm（5nm哀求至少2.4nm，7nm哀求至少3.5nm）。

ASML将于本季度末开始量产Twinscan NXT:2000i，价格未表露。
目前，NXE:3400B EUV光刻机的报价是1.2亿美元一台，传统的ArF沉浸式光刻机（14nm节点）报价是7200万美元之间， NXT:2000i肯定是在这两者之间了。

末了大略先容下ASML公司，其脱胎于荷兰飞利浦的光刻研发小组，2017年环球光刻机市场占比7成，是绝对的一哥，后面随着的是佳能、尼康和上海微电子。

集成电路在制作过程中经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、洗濯、掺杂、机器研磨等多个工序，个中以光刻工序最为关键，它是全体集成电路家当制造工艺前辈程度的主要指标，即在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。
（上刻出晶体管器件的构造和晶体管之间的连接通路。
）

图为NXE:3300 EUV光刻机