腾讯公司申请光刻掩膜的更新方法专利能够生成高质量、低复杂度的掩膜图_误差_掩膜

专利择要显示，本申请履行例供应了一种光刻掩膜的更新方法、装置、设备及存储介质，涉及芯片技能领域。
所述方法包括：获取目标芯片版图对应的掩膜图的参数指标，参数指标用于指示掩膜图的成像质量和繁芜度；根据目标芯片版图的改动边缘放置偏差和参数指标，确定改动边缘放置偏差丢失函数；个中，改动边缘放置偏差用于纠正基于掩膜图天生的晶圆成像图案；根据改动边缘放置偏差丢失函数，确定用于对掩膜图进行更新的丢失函数；根据丢失函数，对掩膜图进行更新。
本申请能够天生高质量、低繁芜度的掩膜图，且比较于OPC算法，能够明显缩短优化韶光。

本文源自金融界