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“Micro-LED显示的技能寻衅是如何得到高分辨率和高像素密度,”梁静秋先容,由于像素尺寸缩小,侧壁表面非辐射复合变大,引起光电效率低落。器件制备过程中的ICP刻蚀,加重了侧壁毛病。
研究团队利用晶圆键合和衬底转移技能,研究了5种像素尺寸的硅衬底AlGaInP红光Micro-LED的尺寸效应。通过采取低损伤刻蚀技能减小LED芯片侧壁毛病;通过采取散热性能更好的硅衬底代替砷化镓(GaAs)衬底,即改进了LED芯片的散热性,又避免GaAs衬底对红光的接管。
研究团队认为,该研究为办理Micro-LED全彩显示技能供应了新的技能方案。

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干系论文信息:https://doi.org/10.1016/j.rinp.2022.10544