Jim哥去核实了一下，果真有一份2022年1月申请的专利《制程精度直达终级1纳米的打印兼刻蚀一体机》，这份专利申请公开日是2023年7月28日，目前进入本色审查阶段，并没有得到授权。
专利发明人我不认识，专利是这么说的：
“制程精度直达终级1纳米的打印兼刻蚀一体机发明项目，便是综合当今已经技能成熟并遍及运用的大尺度彩色图片喷墨打印机和我国已经得到天下领先水平的刻蚀机的事情事理来设计发明的。此发明能够跨过光刻机这头拦路虎，直接由电脑里的大尺度的CAD……等格式的电路图中，通过每个扫描电路图上针孔状探头探测到的每个像素的光学图像旗子暗记，经光电信息转换后，传送到刻蚀机的等离子体喷头的喷射孔点阵中的每一个对应的等离子体喷射孔。”
大略来说，便是用CAD软件掌握1纳米精度的蚀刻机喷头，沿着CAD的图纸进行走线式的打印！
专利的核心设计：
1纳米精度的单电子束等离子体喷射头！
怎么实现1纳米的精度呢？发明人说，我做一个锥形喷口，上面的直径D2是0.2毫米，喷口出口的直径是0.05毫米，我掌握电子束的静电场，让其聚焦到电子半径，肯定就小于1纳米！
所谓的“1纳米芯片制造机”，实在便是一个类似“电子束光刻机”的观点
咦？我们先不看所谓的“1纳米”，单单这“发明”，怎么看着有点熟习？
是不是有一个东西，叫做“电子束光刻机”，发明人没有看过？
“发明人”准备用CAD软件的图纸掌握400个蚀刻机的400个等离子体喷射孔点阵系统，一次性完成400个芯片同步蚀刻事情！
实际上，目前的半导系统编制造工艺中的掩模版，便是通过电子束光刻技能，用类似的扫描技能制造的。
众所周知，ASML在2019年收购了快要破产的电子束光刻厂商Mapper，它的电子束光刻机就拥有13000个电子束头。当然，这种点阵的光刻系统，它本身就不具有大规模生产能力，以是目前只用来加工掩模版。
“1纳米芯片制造机”的实质缺点！
如果这位发明人仅仅是基于类似于“电子束光刻”的观点，发展了独创的1纳米精度的蚀刻等离子体束，那也是一个非常顶尖的科学成果。
那么，发明人造出来了吗？
中微半导体的“5纳米蚀刻机”，本身是不具有空间分辨率的，它的事理是把光刻曝光的全体晶圆放在蚀刻腔体中进行蚀刻。所谓的“5纳米”，只是光刻的精度匹配的工艺。
由于蚀刻机事情过程，是全体晶圆在蚀刻腔中被同步蚀刻，以是也就不存在扫描式等离子体枪头的观点了！
而且，所谓的5纳米蚀刻机，指的本身便是5纳米工艺节点，它实际上对应的光刻分辨率也不是5纳米。
蚀刻不具有空间分辨率，光刻具有空间分辨率
以是，这位发明人称从中微半导体的商用蚀刻灵活身，通过等离子体喷头实现“1纳米芯片制造机”的观点本身便是完备异想天开的！
“发明人”专利中号称这是“原创重大发明”，令人惊奇！
爱迪生类型的发明人？
我看了一下专利申请记录，这位“1纳米芯片制造机”的发明人，从2015年开始撰写发明申请，现在已经申请58个专利， 6个已经授权， 最早的申请的专利是“内置式叠层蒸炖炊具盒”， 最近申请的专利是“一种用于青少年脊柱侧弯的内固定装置及矫治系统”。
看来，这位“发明人”走的是爱迪生类型的职业路线。
既然这样，我们就安静等待这份专利申请的审查结果咯！
注：原文中，关于Mapper公司的电子束光刻的表述，缺点的表述成“电子束蚀刻”，已经全部改动。
