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专利择要显示,本发明供应了一种芯片工艺偏差自动识别纠正方法及系统,涉及数据处理技能领域,该方法包括:获取芯片的待涂胶表面以及预设涂胶厚度;天生多次涂胶工序;对多次涂胶工序中每次涂胶工序进行实时监测,获取多组实时监测数据集,每组实时监测数据集包括平台转速监测数据、滴胶速率监测数据以及滴胶量监测数据;建立偏差影响识别网络层,获取第一偏差影响指标;基于所述第一偏差影响指标天生调节数据集,用于对下一涂胶工序的涂胶掌握参数进行校正,办理了现有技能中存在由于对涂胶质量的监测不准确,导致芯片表面涂胶均匀性不佳的技能问题,达到提升芯片涂胶均匀性,进而担保芯片利用寿命的技能效果。
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