为什么我国今朝无法制造高端芯片？任正非给出标准谜底_光刻_芯片

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光刻机被卡了脖子

华为在通讯、手机、芯片设计行业所取得的造诣是有目共睹的，其在这些领域可以与任意一家美业内巨子一较高下，但是，在美国“芯片禁令”出台后，华为的发展受到了很大的限定，手机业务所受到的影响最大。

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随着科技的发展，芯片成为了手机、打算机等智能产品的必要元器件，也是一家科技企业能否在市场立足的关键。

（图片来自网络侵删）

在我国科技企业还未能危及到美企的行业地位时，我们只要有钱，就可以买到任何想买的芯片，但是，随着我国科技企业的崛起，美国为了巩固自己的“科技霸权”，便开始绝不犹豫的对我国高新科技企业进行“芯片制裁”，复兴、华为无一例外。

或许有的人会说，几十年前，在那样极其恶劣的环境下，我们都能造出原子弹，芯片这么小的一个东西，我国怎么可能造不出来？

对付这个问题，华为创始人任正非给出了一个标准答案。

任正非在接待9大高校校长谈到中国集成电路现状及发展前景时曾表示，我国拥有天下顶级的芯片设计能力，节制着前辈的芯片制造工艺，之所有无法独立制造出高端芯片，紧张还是由于光刻机和化学材料被卡了脖子。

华为海思设计的麒麟9000芯片，综合性能要比高通骁龙888芯片、苹果A14仿生芯片要高，台积电也节制着天下最前辈的芯片制造工艺，但由于美国的一纸禁令，让我国“繁荣的”半导体行业打回原形，高端芯片无法制造，企业发展受限。

为缺点买单

一颗芯片的上市，要经由硅晶圆制作、集成电路设计、光刻、蚀刻、等离子注入以及封测等多个繁芜环节。
而我国半导体行业的软肋就在光刻这一环节。

余承东曾表示，我国在半导体行业的发展过程中，犯了一个致命的缺点，他太过于轻资产的投入（芯片设计），而忽略了对重资产的投资（芯片制造），以至于大量的科学家、物理学家、数学家等人才聚拢扎堆在轻资产领域，海内短缺重资产方面的人才。

实事求是地讲，海内半导体企业起步晚，为了达到快速打响有名度、盘踞市场的目的，将紧张事情重心放在轻资产领域也是情有可原的，毕竟当时西方国家对我们的芯片封锁不是很严格，还有便是芯片制造环节不但要投入大量的资金，还须要大量的数学、物理、化学、材料、机器、电器等方面的高端人才，最主要的是，短韶光内无法盈利，这也是海内企业不敢轻易进军重资产领域的紧张缘故原由。

由于当初的“缺点”选择，在别人举起“重资产”大棒后，我们不得不付出惨痛的代价。

要想冲破美国对海内企业的芯片封锁，我们唯有大力发展芯片制造行业，独立制造出高端“中国芯”。
然而，要想独低廉甜头造出高端芯片，不得不面临一个很现实的问题，必须研制出高端EUV光刻机。

光刻机是系统工程

光刻机是芯片雕刻电路图案的核心设备，只有光刻机的精度足够高，方能缩小芯片上电路的间隙，提升电路的密度，增加电路的数量，提升芯片的性能。

目前，我国光刻机制造龙头上海微电子，最前辈的光刻机仅为28nm级，今年才能交付利用。

为了冲破美国对海内企业的芯片封锁，去年9月，中科院正式宣告，成立光刻机科研攻关小组，争取在短韶光内研制出高端EUV光刻机。
但是，即便中科院已经入局，海内企业短韶光内也独自无法制造出高端芯片，由于光刻机是系统工程。

光刻机事情事理

光刻机通过光源能量、形状掌握等手段，将光束透射过刻着集成线路图的掩模，经由物镜光学补差后，将线路图映射到硅晶圆上。

光刻机的事情事理便是利用曝光的手段将线路图印在硅片上，与冲洗照片是一个道理，但是对光的哀求更高、技能更前辈。

2月25日，清华大学正式官宣，物工系创造了一种新的光源，且这种光源的最直接应用便是EUV光刻机。
这一创造，直接加速了我国光刻机的研发进程。

EUV光刻机所需元器件惊人

美国一科学家曾表示，即便是我国得到了EUV光刻机的图纸，也不可能在短韶光内制造出EUV光刻机。