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芯片晶圆硅片外面镀的膜若何去除?_硅片_速度

少女玫瑰心 2025-01-15 19:40:12 0

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晶圆是硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于漆形状是圆形,故称为晶圆,在硅晶片上可加工制作成各种电路元件构造,而成为有特定电性功能之IC产品。

芯片晶圆硅片加工过程中,须要在表面镀上一层膜,实现导电和保护的功能,这层膜非常薄。
晶圆硅片退镀液是一种用于晶圆硅片镀膜不良返工退镀的环保产品;产品由有机酸、促进剂、剥离剂等组成,不含氢氟酸、硝酸等传统强酸,无磷、无重金属;产品温和不伤手,无色轻微气味,无酸雾挥发,适宜各种氧化膜金属膜退膜,还原镀膜前素材状态;产品常温处理不需加热,不伤基材,不伤硅片高抛光镜面;退膜速率快,速率靠近无机强酸退膜速率,材料易得,本钱低,利用寿命长。

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利用方法:

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(图片来自网络侵删)

1.常温原液利用,处理韶光常日5分钟-1小时不等,不同材质镀膜,退膜韶光不同;

2.加热利用,或增加空气搅拌,退膜速率更快;

3.当退膜速率变慢时,可补充原液或改换槽液;

4.当皮肤不慎打仗药液时,净水及时冲洗即可,皮肤不要永劫光打仗药液

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