我国因被芯片被卡脖子，华为只能无奈卖掉光彩，更传出，其2021年智好手机产量将减半。芯片便是中国民气中的痛啊，但好在，2018年《自然》年度十大科学家之首的曹原，再次揭橥论文，意味着，石墨烯领域，也再次得到打破性进展。结合最新的研究成果石墨烯芯片的成功研制，又近了一步。
现在流利的是硅基芯片，其生产工艺已逼近3纳米，根据摩尔定律，将在两三年之后达到1纳米的工艺极限。这就会涌现非常大的问题，泄电效应，什么意思呢，实在便是由于芯片晶体管之间须要栅极宽度，电子须要足够间隔来移动，间距过小的时候，就会涌现电子串流的情形。意味着硅基芯片的性能即将到达极限，那么，芯片性能该如何提升？那便是找到性能更强的材料，石墨烯便是目前最得当也最有望的材料。石墨烯芯片的性能是传统芯片的5到10倍，幸运的是，我国在这个领域处于领先地位。石墨烯芯片对我国的意义非常巨大，性能强意味着，我们14nm的石墨烯芯片性能就可以达到传统芯片7nm乃至5nm的水平。光这一点就足够将我国打破技能封锁向前了一大步，缘故原由大家连续看。
在2020中国国际石墨烯创新大会上，我国对外展示了8英寸石墨烯单晶晶圆，意味着我国国产石墨烯芯片终于迎来了打破。并且该科研团队已经完成了小批量生产，标志着我国石墨烯晶圆无论在产品尺寸还是质量上都处于国际“领跑”水平。但离量产，还非常迢遥。
那么，石墨烯芯片能打破美国封锁，实现“换道超车”吗？答案是不能，但难度会降落很多。由于，我国被卡脖子的并不是芯片，而是制造芯片的光刻机，众所周知，华为的芯片设计已经处于天下领先水平，与高通、苹果同一梯队，但无奈制造芯片的光刻机我们造不出来。网上很多人说，石墨烯芯片不须要光刻机，可能这些人是被冲昏了头脑。这个是完备不现实的，只要它还是半导体，须要电极通报旗子暗记，那就须要光刻机给芯片固定电极。但是，石墨烯芯片对光刻机的哀求，不会那么高，因此对海内高端光刻机领域掉队的局势具有一定的缓解浸染。接上文，同等性能下，可能14nm的石墨烯芯片就可以达到7nm乃至5nm的水平。那么，比较造5nm的光刻机，造14nm的光刻机是不是更加随意马虎？
以是啊，明白这一点后，大家就该当知道为何美国这么忌惮我国的石墨烯发展。石墨烯芯片对我国的意义也非常重大，它直接决定了我国将不才个半导体时期（碳时期）的领先地位。可喜可贺的是，华为已进驻研发出8英寸石墨烯单晶晶圆的北大团队，和他们共同参与商用碳基芯片的研发。同时也正是由于像曹原，像彭练矛院士这样的科学家在，我国才有得胜的希望，为他们点赞！
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